[发明专利]用于处理具有相干性的辐射束的装置和方法有效

专利信息
申请号: 201780048092.2 申请日: 2017-07-17
公开(公告)号: CN109564395B 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: S·A·戈登;N·潘迪;D·阿克布鲁特;T·W·图克;J·M·M·德维特 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B6/42;G02B6/26
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;吕世磊
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了用于处理具有相干性的辐射束的装置和方法。在一种布置中,光学系统接收具有相干性的辐射束。辐射束包括分布在一个或多个辐射束空间模式之上的分量。波导支持多个波导空间模式。光学系统将属于共同辐射束空间模式并且具有不同频率的辐射束的多个分量引导到波导上,使得多个分量中的每个分量耦合到波导空间模式的不同集合,每个集合包括一个或多个波导空间模式。
搜索关键词: 用于 处理 具有 相干性 辐射 装置 方法
【主权项】:
1.一种用于处理具有相干性的辐射束的装置,包括:光学系统,被配置为接收具有相干性的辐射束,所述辐射束包括分布在一个或多个辐射束空间模式之上的分量;以及波导,被配置为支持多个波导空间模式,其中:所述光学系统被配置为将属于共同辐射束空间模式并且具有不同频率的所述辐射束的多个分量引导到所述波导上,使得所述多个分量中的每个分量耦合到所述波导空间模式的不同集合,每个集合包括所述波导空间模式中的一个或多个波导空间模式。
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