[发明专利]选择性硅石抛光的浆料组合物和方法有效
| 申请号： | 201780044152.3 | 申请日： | 2017-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN109476954B | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 纳撒尼尔·D·乌尔班 | 申请（专利权）人： | 福禄公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 牟静芳;郑霞 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于化学‑机械抛光的酸性浆料组合物，其包含酸性pH调节剂和包含季化芳族杂环的阳离子型抛光抑制剂。季化芳族杂环赋予硅石相对于晶体硅至少100的抛光选择性。 | ||
| 搜索关键词： | 选择性 硅石 抛光 浆料 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种酸性含水浆料组合物，包含：磨料颗粒，所述磨料颗粒选自由二氧化铈、氧化铝、氧化锆、硅石、二氧化钛及其组合组成的组；足量的pH调节剂，所述pH调节剂使浆料pH达到低于5；以及阳离子型抛光抑制剂，所述阳离子型抛光抑制剂包含季铵化芳族杂环。
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