[发明专利]测定装置、测定方法及测定程序在审
| 申请号： | 201780043345.7 | 申请日： | 2017-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN109475313A | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 樋口大辅 | 申请（专利权）人： | 京瓷株式会社 |
| 主分类号： | A61B5/0285 | 分类号： | A61B5/0285;A61B5/1455 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朴英淑 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 测定装置具备发光部、受光部和控制部。发光部射出针对部位的照射光。受光部检测与照射光相应的来自部位的散射光。控制部使发光部射出第一强度的第一照射光和比第一强度低的第二强度的第二照射光。控制部基于第一散射光和第二散射光检测规定的信号，第一散射光是受光部根据第一照射光检测的，第二散射光是受光部根据第二照射光检测的。 | ||
| 搜索关键词： | 照射光 受光部 发光部 散射光 散射 射出 检测 散射光检测 测定装置 程序测定 | ||
【主权项】：
1.一种测定装置，具备：发光部，射出针对被检查者的部位的照射光；受光部，检测与所述照射光相应的来自所述部位的散射光；以及控制部，所述控制部使所述发光部在不同的时刻射出第一强度的第一照射光和比所述第一强度低的第二强度的第二照射光，所述控制部基于第一散射光和第二散射光检测规定的信号，其中，所述第一散射光是所述受光部根据所述第一照射光检测的，所述第二散射光是所述受光部根据所述第二照射光检测的。
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