[发明专利]包含具有乙内酰脲环的化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物在审
| 申请号： | 201780040019.0 | 申请日： | 2017-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN109416512A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 绪方裕斗;后藤裕一;远藤雅久;臼井友辉;岸冈高广 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C07C43/13;C07D251/34;C07D403/14;C08L65/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;孙丽梅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明的课题是提供包含具有乙内酰脲环的化合物的、新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含1分子中具有至少2个下述式(1)所示的取代基的化合物、和溶剂。(式中，R1和R2各自独立地表示氢原子或甲基，X1表示碳原子数1～3的羟基烷基、或主链具有1个或2个醚键的碳原子数2～6的烷基。) |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂下层膜 形成用组合物 式( 1 ) 碳原子数 乙内酰脲 烷基 羟基烷基 氢原子 溶剂 醚键 式中 主链 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含1分子中具有至少2个下述式(1)所示的取代基的化合物、和溶剂，![]()
式中，R1和R2各自独立地表示氢原子或甲基，X1表示碳原子数1～3的羟基烷基、或主链具有1个或2个醚键的碳原子数2～6的烷基。
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