[发明专利]用于金属表面后处理的水基组合物在审

专利信息
申请号: 201780038677.6 申请日: 2017-06-23
公开(公告)号: CN109477226A 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 新井千穗;F·拉戈斯-布罗克;R·吕特尔;O·库尔茨 申请(专利权)人: 德国艾托特克公司
主分类号: C23F11/12 分类号: C23F11/12;C23F11/14;C23F11/16;C11D3/20
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 林斯凯
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及用于金属表面、优选地银或银合金表面后处理的水基组合物,其包含烷烃硫醇;阴离子、阳离子、非离子、两性或两性离子表面活性剂,其HLB值为12至18;通式(I)的化合物,其中R1为‑H、‑CH3、‑C2H5、‑(C2H4O)p‑H、‑(C2H4O)p‑CH3、‑(C2H4O)p‑CH(CH3)2、‑(C2H4O)p‑C(CH3)3,其中p为1至20,R2为H或CH3,n为0至3范围内的整数,m为0至2范围内的整数。
搜索关键词: 水基组合物 金属表面 两性离子表面活性剂 表面后处理 后处理 非离子 阳离子 阴离子 银合金 硫醇 烷烃 优选
【主权项】:
1.一种用于金属表面、优选银或银合金表面后处理的水基组合物,其包含烷烃硫醇,阴离子、阳离子、非离子、两性或两性离子表面活性剂,其HLB值为12至18,其特征在于所述水基组合物进一步含有通式I的化合物:其中R1是‑H、‑CH3、‑C2H5、‑(C2H4O)p‑H、‑(C2H4O)p‑CH3、‑(C2H4O)p‑CH(CH3)2、‑(C2H4O)p‑C(CH3)3,其中p是在1至20范围内的整数,R2是H或CH3,N是0至3范围内的整数,M是0、1或2范围内的整数。
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