[发明专利]具有薄层覆盖物的组件和其产生方法在审

专利信息
申请号: 201780038100.5 申请日: 2017-06-26
公开(公告)号: CN109415200A 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 托马斯·梅茨格;神岛章史 申请(专利权)人: 追踪有限公司
主分类号: B81B7/00 分类号: B81B7/00;H03H9/10;H03H3/007
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 章蕾
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供一种组件B,其包括载体TR,所述载体上的功能结构FS被跨越所述载体并且放置在所述载体上的薄层覆盖物DSA覆盖。在布置于所述薄层覆盖物DSA上方的平面化层上,实现布线层级M1、M2,其包括结构化导体路径并且经由穿通连接连接到所述功能结构FS。
搜索关键词: 薄层覆盖物 功能结构 布线层级 导体路径 平面化层 结构化 覆盖
【主权项】:
1.一种组件B,其包括‑载体TR,‑功能结构FS,其在所述载体TR上,‑薄层覆盖物DSA,其跨越所述功能结构FS并且放置在所述载体上,‑平面化层,其布置在所述薄层覆盖物DSA上方,‑布线层级M1、M2,其应用到所述平面化层上,其中‑所述布线层级VE包括结构化导体路径并且经由穿通连接连接到所述功能结构FS。
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