[发明专利]利用倾斜照射的成像系统在审
| 申请号： | 201780032152.1 | 申请日： | 2017-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN109154571A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 史蒂文·J·伯格 | 申请（专利权）人： | 分子装置有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G01N21/17 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 顾红霞;顾欣 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种利用倾斜照射的成像系统，包括方法和设备。在成像的示例性方法中，可以用由安装于环形框架的多个光源的仅一个子组生成的激发光倾斜地照射样品。可以检测图像，该图像由光致发光形成，光致发光由激发光在样品中诱发并从环形框架的中央开口被接收。 | ||
| 搜索关键词： | 成像系统 光致发光 环形框架 倾斜照射 激发光 方法和设备 检测图像 中央开口 子组 光源 成像 照射 诱发 图像 | ||
【主权项】：
1.一种成像方法，所述方法包括：用由安装于环形框架的至少一个固态光源生成的激发光倾斜地照射样品，所述激发光在所述样品的上游被光谱滤波；以及检测用光致发光形成的图像，所述光致发光由所述激发光诱发并从所述环形框架的中央开口被接收。
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