[发明专利]抗蚀剂组合物在审
| 申请号： | 201780030963.8 | 申请日： | 2017-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN109154772A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | W-P·福尔蒂森;玛丽亚-克莱尔·范拉尔;S·F·伍伊斯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 程纾孟 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含：a)含金属的纳米颗粒和/或纳米簇，和b)配体和/或有机连接体，其中a)或b)中的一种或两者是多价的。一种抗蚀剂组合物，其中：i)所述抗蚀剂组合物是负性抗蚀剂，并且所述纳米颗粒和/或纳米簇在暴露于电磁辐射或电子束后所述配体和/或有机连接体交联时成簇；或ii)所述抗蚀剂组合物是负性抗蚀剂，并且所述配体和/或有机连接体是交联的，并且交联键在暴露于电磁辐射或电子束时断裂，使所述纳米颗粒和/或纳米簇成簇到一起；或所述抗蚀剂组合物是正性抗蚀剂，并且所述配体和/或有机连接体是交联的，并且交联键在暴露于电磁辐射或电子束时断裂。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂组合物 有机连接体 电子束 配体 电磁辐射 纳米颗粒 纳米簇 交联 负性抗蚀剂 交联键 成簇 暴露 断裂 正性抗蚀剂 金属 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含：a)含金属的纳米颗粒和/或纳米簇，和b)配体和/或有机连接体，其中组分a)或b)中的一种或两者是多价的。
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