[发明专利]荧光测定装置的校正用基准体在审
申请号: | 201780030146.2 | 申请日: | 2017-02-23 |
公开(公告)号: | CN109154570A | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
发明(设计)人: | 长谷川宽;中村隆之;石上喜浩;近藤房宣 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 基准体(1)包括:支撑体(10),其设置有第1光通过部(18)及第2光通过部(19)、以及第1收纳空间(14)及第2收纳空间(15);第1荧光体(20),其收纳于第1收纳空间(14),在第1波长区域的第1激发光经由第1光通过部(18)被照射时发出第2波长区域的第1荧光;第2荧光体(30),其收纳于第2收纳空间(15),在第1波长区域的第2激发光经由第2光通过部(19)被照射时发出第2波长区域的第2荧光;以及遮光部(13),其配置于第1收纳空间(14)与第2收纳空间(15)之间。在入射至第1光通过部(18)的第1激发光的光量与入射至第2光通过部(19)的第2激发光的光量相互相等的情况下,自第1光通过部(18)出射的第1荧光的光量与自第2光通过部(19)出射的第2荧光的光量互不相同。 | ||
搜索关键词: | 通过部 收纳空间 波长区域 激发光 荧光 光量 收纳 基准体 荧光体 出射 入射 照射 荧光测定装置 遮光部 支撑体 相等 校正 配置 | ||
【主权项】:
1.一种荧光测定装置的校正用基准体,其特征在于,包括:支撑体,其设置有第1光通过部及第2光通过部、以及与所述第1光通过部相对的第1收纳空间及与所述第2光通过部相对的第2收纳空间;第1荧光体,其收纳于所述第1收纳空间,在第1波长区域的第1激发光经由所述第1光通过部被照射时发出第2波长区域的第1荧光;第2荧光体,其收纳于所述第2收纳空间,在所述第1波长区域的第2激发光经由所述第2光通过部被照射时发出所述第2波长区域的第2荧光;以及遮光部,其配置于所述第1收纳空间与所述第2收纳空间之间,在入射至所述第1光通过部的所述第1激发光的光量与入射至所述第2光通过部的所述第2激发光的光量相互相等的情况下,自所述第1光通过部出射的所述第1荧光的光量与自所述第2光通过部出射的所述第2荧光的光量互不相同。
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