[发明专利]用于KPI性能分析的具有无约束因变量的MPC在审
申请号: | 201780028590.0 | 申请日: | 2017-07-12 |
公开(公告)号: | CN109155018A | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
发明(设计)人: | A.J.特伦查德;A.奥登-斯威夫特 | 申请(专利权)人: | 霍尼韦尔国际公司 |
主分类号: | G06Q10/06 | 分类号: | G06Q10/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张凌苗;蒋骏 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种关键性能指标(KPI)性能分析的方法(100)。提供(101)用于工业过程的动态模型预测控制(MPC)过程模型,工业过程包括用于MPC控制器的受控变量(CV)和测量变量(MV)。MPC过程模型包括至少一个KPI,其也包括在用于工业过程的业务KPI监视系统中。估计(102)KPI的未来轨迹和KPI的稳态(SS)值。使用(103)未来轨迹和SS值来确定从CV和MV选择的关键工厂操作变量与KPI之间的动态关系。分析(104)KPI的性能,包括从动态关系和MV的至少一部分的当前值标识工业过程的操作期间的超过性能或性能问题的至少一个原因。 | ||
搜索关键词: | 工业过程 动态关系 过程模型 性能分析 动态模型预测 关键性能指标 操作期间 工厂操作 监视系统 受控变量 性能问题 无约束 因变量 稳态 测量 分析 | ||
【主权项】:
1.一种关键性能指标(KPI)性能分析的方法(100),包括:提供(101)用于工业过程的动态模型预测控制(MPC)过程模型,所述工业过程包括用于MPC控制器的多个受控变量(CV)和多个测量变量(MV),所述MPC控制器由具有存储所述MPC过程模型的存储器(211b)的处理器(221a)实现,所述MPC过程模型包括至少一个KPI,所述至少一个KPI也包括在用于所述工业过程的业务KPI监视系统中;估计(102)所述KPI的未来轨迹和其中所述KPI将稳定的稳态(SS)值;使用(103)所述未来轨迹和所述SS值,确定从所述多个CV和所述多个MV选择的关键工厂操作变量与所述KPI之间的动态关系,以及分析(104)所述KPI的性能,包括从所述动态关系以及所述MV的至少一部分的当前值标识所述工业过程的操作期间超过所述性能或所述性能中的问题的至少一个原因。
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G06 计算;推算;计数
G06Q 专门适用于行政、商业、金融、管理、监督或预测目的的数据处理系统或方法;其他类目不包含的专门适用于行政、商业、金融、管理、监督或预测目的的处理系统或方法
G06Q10-00 行政;管理
G06Q10-02 .预定,例如用于门票、服务或事件的
G06Q10-04 .预测或优化,例如线性规划、“旅行商问题”或“下料问题”
G06Q10-06 .资源、工作流、人员或项目管理,例如组织、规划、调度或分配时间、人员或机器资源;企业规划;组织模型
G06Q10-08 .物流,例如仓储、装货、配送或运输;存货或库存管理,例如订货、采购或平衡订单
G06Q10-10 .办公自动化,例如电子邮件或群件的计算机辅助管理
G06Q 专门适用于行政、商业、金融、管理、监督或预测目的的数据处理系统或方法;其他类目不包含的专门适用于行政、商业、金融、管理、监督或预测目的的处理系统或方法
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