[发明专利]纯化方法及纯化装置有效
| 申请号： | 201780021917.1 | 申请日： | 2017-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN109414629B | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 川上祥子;北野靖;安部宽太 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | B01D7/00 | 分类号： | B01D7/00;B01D1/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种新颖的升华纯化方法。此外，提供一种新颖的升华纯化装置。一种使用包括通过使物质气化进行纯化的纯化部、温度调节单元、气体供应单元及气体排出单元的纯化装置的纯化方法。其中，使用气体排出单元将纯化部内设定为第一压力，使用温度调节单元设定纯化部的温度梯度来纯化物质，然后，使用气体供应单元将纯化部内的压力设定为第二压力，使用温度调节单元冷却纯化部。第二压力高于第一压力，并且，第二压力为大气压以上。 | ||
| 搜索关键词： | 纯化 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种使用纯化装置的纯化方法，该纯化装置包括：通过使物质气化进行纯化的纯化部；设置在所述纯化部的温度调节单元；设置在所述纯化部的一个端部并具有对所述纯化部内供应气体的功能的气体供应单元；以及设置在所述纯化部的另一个端部并具有从所述纯化部内排出气体的功能的气体排出单元，该纯化方法包括如下步骤：使用所述气体排出单元，将所述纯化部内设定为第一压力；使用所述温度调节单元，设定所述纯化部的温度梯度，纯化所述物质；然后，使用所述气体供应单元，将所述纯化部内的压力设定为第二压力；以及使用所述温度调节单元，冷却所述纯化部，其中，所述第二压力高于所述第一压力，并且，所述第二压力为大气压以上。
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