[发明专利]用于从入射电磁波形成近区中的场强图案的设备有效

专利信息
申请号: 201780020037.2 申请日: 2017-03-24
公开(公告)号: CN108885354B 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: L.布隆德;A.波里斯金 申请(专利权)人: 交互数字CE专利控股公司
主分类号: G02B27/56 分类号: G02B27/56;B82Y20/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 刘茵
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及一种用于从入射在设备上的电磁波形成近区中的场强图案的设备。尤其是,这样的设备允许将入射在设备上的电磁波局限在近区中的辐射波束中。它包括至少一个介电材料的层,其表面具有形成台阶的至少一个水平突然改变。所述表面相对于所述台阶的下方和侧向部分与具有比所述介电材料的折射指数更低的折射指数的物质接触。对于在这样的台阶附近冲击在设备上的入射电磁波,其遇到的指数的对应台阶产生复杂的电磁现象,这允许生成近区中的低色散会聚波束和特定场图案。
搜索关键词: 用于 入射 电磁波 形成 中的 场强 图案 设备
【主权项】:
1.一种用于从传播的电磁波形成近区中的场强分布的设备(132),所述电磁波入射在所述设备上,其中所述设备包括:至少一个介电材料的层(112),具有第一折射指数n1与具有形成台阶的至少一个水平突然改变的表面;具有低于所述第一折射指数(n1)的第二折射指数n2的元件,其与所述台阶接触;以及其中所述台阶生成与所述电磁波的传播方向相比倾斜的波束。
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