[发明专利]用于基板应力和变形测量的计量系统有效

专利信息
申请号: 201780019443.7 申请日: 2017-03-09
公开(公告)号: CN108885092B 公开(公告)日: 2020-09-22
发明(设计)人: 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼;托德·伊根;萨姆尔·班纳;凯尔·坦蒂旺 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: G01B11/16 分类号: G01B11/16;G02B27/14
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开内容的实施方式提供了一种计量系统。在一个示例中,计量系统包括:激光源,适用于发射光束;透镜,适用于从激光源接收光束的至少一部分;第一分束器,定位为接收穿过透镜的光束的至少部分;第一束移位装置,适用于致使从分束器接收的光束的一部分被分为两个或更多个子光束;第一记录装置,具有检测表面;以及第一偏振器,定位在第一移位装置与第一记录装置之间,其中所述第一偏振器经配置以致使从第一移位装置提供的两个或更多个子光束在第一记录装置的检测表面上形成干涉图案。
搜索关键词: 用于 应力 变形 测量 计量 系统
【主权项】:
1.一种计量系统,包括:激光源,适用于发射光束;透镜,适用于从所述激光源接收所述光束的至少一部分;第一分束器,定位为接收穿过所述透镜的所述光束的至少一部分;第一束移位装置,适用于致使从所述分束器接收的所述光束的一部分被分为两个或更多个子光束,所述子光束经移位而彼此隔开一定距离;第一记录装置,具有检测表面;和第一偏振器,定位在所述第一移位装置与所述第一记录装置之间,其中所述第一偏振器经配置以致使从所述第一移位装置提供的所述两个或更多个子光束在所述第一记录装置的所述检测表面上形成干涉图案。
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