[发明专利]照射系统和量测系统有效
| 申请号： | 201780015501.9 | 申请日： | 2017-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN108700834B | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | J·M·M·德维特;K·G·菲金;A·J·C·斯基本;M·玛森;H·M·J·范德格罗伊斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种用于量测装置的照射系统和一种包括这种照射系统的量测装置。照射系统包括照射源；以及线性可变滤波器装置，被配置为对来自上述照射源的辐射束进行滤波并且包括一个或多个线性可变滤波器。照射系统可操作用于在辐射束被线性可变滤波器装置滤波之后进行对辐射束的波长特性的选择性控制。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于量测装置的照射系统，包括：照射源；以及线性可变滤波器装置，被配置为对来自所述照射源的辐射束进行滤波并且包括一个或多个线性可变滤波器；其中所述照射系统可操作用于在所述辐射束被所述线性可变滤波器装置滤波之后进行对所述辐射束的波长特性的选择性控制。
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