[发明专利]用于超光谱成像计量的系统及方法有效
| 申请号： | 201780009256.0 | 申请日： | 2017-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN108603789B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 安德鲁·V·希尔 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01J3/44 | 分类号： | G01J3/44;G01N21/95 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种计量系统，其包含：照明源，其经配置以产生照明光束；一或多个照明光学器件，其经配置以将所述照明光束引导到样本；一或多个收集光学器件，其经配置以收集从所述样本发出的照明；检测器；及超光谱成像子系统。所述超光谱成像子系统包含：分散元件，其定位于所述组收集光学器件的光瞳平面处，所述分散元件经配置以光谱分散所述所收集的照明；透镜阵列，其包含聚焦元件阵列；及一或多个成像光学器件。所述一或多个成像光学器件组合所述光谱分散的所收集的照明以在所述透镜阵列上形成所述光瞳平面的图像。所述透镜阵列的所述聚焦元件使所述所收集的照明以阵列图案分布于所述检测器上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光谱 成像 计量 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种计量系统，其包括：照明源，其经配置以产生照明光束；一或多个照明光学器件，其经配置以将所述照明光束引导到样本；一或多个收集光学器件，其经配置以收集从所述样本发出的照明；检测器；及超光谱成像子系统，其包括：分散元件，其定位于所述组收集光学器件的光瞳平面处，所述分散元件经配置以光谱分散所述所收集的照明；透镜阵列，其包含聚焦元件阵列；及一或多个成像光学器件，其中所述一或多个成像光学器件组合所述光谱分散的所收集的照明以在所述透镜阵列上形成所述光瞳平面的图像，其中所述透镜阵列的所述聚焦元件使所述所收集的照明以阵列图案分布于所述检测器上。
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