[发明专利]喷嘴构件和使用该喷嘴构件的液体排出头以及记录装置有效

专利信息
申请号: 201780008195.6 申请日: 2017-01-27
公开(公告)号: CN108602350B 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 东别府诚 申请(专利权)人: 京瓷株式会社
主分类号: B41J2/14 分类号: B41J2/14
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 刘文海
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开的喷嘴构件(31)具有基材(60)、金属氧化膜(63)、疏水膜(64)。基材(60)具有第1面(60a),在第1面(60a)上开设了多个作为排出孔(8)的贯通孔(8a)。金属氧化膜(63)配置在第1面(60a)上。疏水膜(64)配置在金属氧化膜(63)上。而且,在设排出孔(8)的周围的区域为第1区域(A1)、相邻的第1区域(A1)之间的区域为第2区域(A2)时,第1区域(A1)中的金属氧化膜(63)的厚度比第2区域(A2)中的金属氧化膜(63)的厚度厚。
搜索关键词: 喷嘴 构件 使用 液体 出头 以及 记录 装置
【主权项】:
1.一种喷嘴构件,其特征在于,所述喷嘴构件具有:基材,其具有开设了多个作为排出孔的贯通孔的第1面;金属氧化膜,其配置在所述第1面上;以及疏水膜,其配置在该金属氧化膜上,在设所述排出孔的周围的区域为第1区域、相邻的所述第1区域之间的区域为第2区域时,所述第1区域中的所述金属氧化膜的厚度比所述第2区域中的所述金属氧化膜的厚度厚。
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