[发明专利]喷嘴构件和使用该喷嘴构件的液体排出头以及记录装置有效
申请号: | 201780008195.6 | 申请日: | 2017-01-27 |
公开(公告)号: | CN108602350B | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
发明(设计)人: | 东别府诚 | 申请(专利权)人: | 京瓷株式会社 |
主分类号: | B41J2/14 | 分类号: | B41J2/14 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘文海 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷嘴 构件 使用 液体 出头 以及 记录 装置 | ||
1.一种喷嘴构件,其特征在于,
所述喷嘴构件具有:
基材,其具有开设了多个作为排出孔的贯通孔的第1面;
金属氧化膜,其配置在所述第1面上;以及
疏水膜,其配置在该金属氧化膜上,
在设所述排出孔的周围的区域为第1区域、相邻的所述第1区域之间的区域为第2区域时,所述第1区域中的所述金属氧化膜自身的厚度比所述第2区域中的所述金属氧化膜自身的厚度厚,
在所述金属氧化膜与所述基材之间配置有金属膜。
2.根据权利要求1所述的喷嘴构件,其特征在于,
所述第1区域中的所述金属氧化膜的靠所述疏水膜侧的面的粗糙度比所述第2区域中的所述金属氧化膜的靠所述疏水膜侧的面的粗糙度大。
3.一种喷嘴构件,其特征在于,
所述喷嘴构件具有:
基材,其具有开设了多个作为排出孔的贯通孔的第1面;
金属氧化膜,其配置在所述第1面上;以及
疏水膜,其配置在该金属氧化膜上,
在设所述排出孔的周围的区域为第1区域、相邻的所述第1区域之间的区域为第2区域时,所述第1区域中的所述金属氧化膜的靠所述疏水膜侧的面的粗糙度比所述第2区域中的所述金属氧化膜的靠所述疏水膜侧的面的粗糙度大,
所述第1区域具有所述贯通孔的开口半径的宽度。
4.根据权利要求3所述的喷嘴构件,其特征在于,
在所述金属氧化膜与所述基材之间配置有金属膜。
5.根据权利要求1或4所述的喷嘴构件,其特征在于,
作为所述金属膜的主要成分的金属和作为所述金属氧化膜的主要成分的金属相同。
6.根据权利要求1或4所述的喷嘴构件,其特征在于,
所述第1区域中的所述金属膜的厚度比所述第2区域中的所述金属膜的厚度薄。
7.一种喷嘴构件,其特征在于,
所述喷嘴构件具有:
基材,其具有开设了多个作为排出孔的贯通孔的第1面;
金属氧化膜,其配置在所述第1面上;以及
疏水膜,其配置在该金属氧化膜上,
在设所述排出孔的周围的区域为第1区域、相邻的所述第1区域之间的区域为第2区域时,所述第1区域中的所述金属氧化膜自身的厚度比所述第2区域中的所述金属氧化膜自身的厚度厚,
所述第1区域中的所述疏水膜的疏水性比所述第2区域中的所述疏水膜的疏水性高。
8.一种液体排出头,其特征在于,
所述液体排出头具有权利要求1~7中任一项所述的喷嘴构件、与所述排出孔相连的加压室、以及对该加压室施加压力的加压部。
9.一种记录装置,其特征在于,
所述记录装置具有权利要求8所述的液体排出头、对所述液体排出头输送记录介质的输送部、以及对所述液体排出头进行控制的控制部。
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