[实用新型]一种用于离子蚀刻的设备及其承载盘有效
| 申请号： | 201721813633.X | 申请日： | 2017-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN207752963U | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 李瑞;邓有财;邱树添;张家豪;马贺 | 申请（专利权）人： | 厦门三安光电有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 361100 福建省厦门市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于离子蚀刻的承载盘，其包括：盘面，盘面具有第一表面和第二表面，第一表面为工作面，位于盘面上第一表面的凸起，凸起用于为待离子蚀刻的晶圆提供定位，套在凸起外表面的可以更换的保护套，设置保护套减少了离子蚀刻对盘面的损坏，延长承载盘使用寿命，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 离子蚀刻 承载盘 盘面 凸起 第一表面 本实用新型 第二表面 使用寿命 对盘 晶圆 套在 | ||
【主权项】：
1.一种用于离子蚀刻的承载盘，其包括：盘面，盘面具有第一表面和第二表面，位于盘面第一表面的数个凸起，凸起用于为待离子蚀刻的晶圆提供定位，晶圆位置限定在凸起之间，凸起表面具有保护层。
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