[实用新型]一种掺硼金刚石电极有效
申请号: | 201721801225.2 | 申请日: | 2017-12-20 |
公开(公告)号: | CN207774876U | 公开(公告)日: | 2018-08-28 |
发明(设计)人: | 唐永炳;谷继腾;杨扬;石磊 | 申请(专利权)人: | 深圳先进技术研究院 |
主分类号: | C02F1/461 | 分类号: | C02F1/461;C02F1/30;B01J23/30;B01J23/20 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种掺硼金刚石电极,包括基体,依次层叠设置于所述基体上的掺硼金刚石层和二氧化钛层,所述二氧化钛层具有多孔结构,所述多孔结构的孔洞贯穿所述二氧化钛层,以使部分所述掺硼金刚石层暴露。本实用新型提供的掺硼金刚石电极,通过在掺硼金刚石层表面设置具有贯穿孔洞的多孔结构的二氧化钛层,提高了二氧化钛层的比表面积,进一步提高了光催化性能,而部分掺硼金刚石层的暴露使得电催化性能增强。 | ||
搜索关键词: | 二氧化钛层 掺硼金刚石 掺硼金刚石电极 多孔结构 本实用新型 电催化性能 光催化性能 表面设置 贯穿孔洞 孔洞贯穿 依次层叠 暴露 | ||
【主权项】:
1.一种掺硼金刚石电极,其特征在于,包括基体,依次层叠设置于所述基体上的掺硼金刚石层和二氧化钛层,所述二氧化钛层具有多孔结构,所述多孔结构的孔洞贯穿所述二氧化钛层,以使部分所述掺硼金刚石层暴露。
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