[实用新型]一种掺硼金刚石电极有效
| 申请号： | 201721801225.2 | 申请日： | 2017-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN207774876U | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 唐永炳;谷继腾;杨扬;石磊 | 申请（专利权）人： | 深圳先进技术研究院 |
| 主分类号： | C02F1/461 | 分类号： | C02F1/461;C02F1/30;B01J23/30;B01J23/20 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 518055 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 二氧化钛层 掺硼金刚石 掺硼金刚石电极 多孔结构 本实用新型 电催化性能 光催化性能 表面设置 贯穿孔洞 孔洞贯穿 依次层叠 暴露 | ||
【权利要求书】：
1.一种掺硼金刚石电极，其特征在于，包括基体，依次层叠设置于所述基体上的掺硼金刚石层和二氧化钛层，所述二氧化钛层具有多孔结构，所述多孔结构的孔洞贯穿所述二氧化钛层，以使部分所述掺硼金刚石层暴露。
2.如权利要求1所述的掺硼金刚石电极，其特征在于，所述孔洞沿垂直于所述基体表面的方向设置。
3.如权利要求1所述的掺硼金刚石电极，其特征在于，所述孔洞之间彼此间隔设置。
4.如权利要求1所述的掺硼金刚石电极，其特征在于，所述掺硼金刚石层的厚度为1-3μm。
5.如权利要求4所述的掺硼金刚石电极，其特征在于，所述掺硼金刚石层的厚度为2-2.5μm。
6.如权利要求1所述的掺硼金刚石电极，其特征在于，所述二氧化钛层的厚度为0.2-0.5μm。
7.如权利要求6所述的掺硼金刚石电极，其特征在于，所述二氧化钛层的厚度为0.3-0.4μm。
8.如权利要求1所述的掺硼金刚石电极，其特征在于，所述基体的材质包括钛、硅、钽、铌和钨中的一种或多种。
9.如权利要求1所述的掺硼金刚石电极，其特征在于，所述基体为平板状或网格状。
10.如权利要求1所述的掺硼金刚石电极，其特征在于，所述掺硼金刚石层和所述二氧化钛层设置于所述基体的一侧或相对的两侧。
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