[实用新型]一种磁控溅射镀膜用加热装置有效
申请号: | 201721780875.3 | 申请日: | 2017-12-19 |
公开(公告)号: | CN207727139U | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 邹建雄;鲁远甫;魏广路;李锐;焦国华;吕建成 | 申请(专利权)人: | 中国科学院深圳先进技术研究院 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰 |
地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜用加热装置,包括固定设置的加热盘、相对于所述加热盘转动的支架及容置于所述支架内随所述支架转动的样品夹具,所述支架包括上下依次间隔设置且相对固定的第一支板和第二支板,所述加热盘设于所述第一支板和所述第二支板之间,所述第二支板上与加热盘相对的部位设有用于容置所述样品夹具的第一卡孔,所述样品夹具包括与所述加热盘相对的吸热层、设于所述吸热层下方的托盘、及设于所述吸热层与所述托盘之间的导热层,所述托盘用于承托样品并使样品背离所述导热层的表面暴露于所述托盘下表面以进行溅射镀膜。本实用新型提供了一种磁控溅射镀膜用加热装置,以对磁控溅射装置中样品基片进行高效均匀加热。 | ||
搜索关键词: | 加热盘 支板 磁控溅射镀膜 托盘 加热装置 样品夹具 吸热层 支架 本实用新型 导热层 磁控溅射装置 托盘下表面 表面暴露 固定设置 间隔设置 溅射镀膜 均匀加热 样品基片 支架转动 承托 卡孔 容置 转动 背离 | ||
【主权项】:
1.一种磁控溅射镀膜用加热装置,其特征在于,包括固定设置的加热盘(2)、相对于所述加热盘(2)转动的支架(1)及容置于所述支架(1)内随所述支架(1)转动的样品夹具(3),所述支架(1)包括上下依次间隔设置且相对固定的第一支板(11)和第二支板(12),所述加热盘(2)设于所述第一支板(11)和所述第二支板(12)之间,所述第二支板(12)上与加热盘(2)相对的部位设有用于容置所述样品夹具(3)的第一卡孔(121),所述样品夹具(3)包括与所述加热盘(2)相对的吸热层(33)、设于所述吸热层(33)下方的托盘(31)、及设于所述吸热层(33)与所述托盘(31)之间的导热层(32),所述托盘(31)用于承托样品并使样品背离所述导热层(32)的表面暴露于所述托盘(31)下表面以进行溅射镀膜。
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