[实用新型]掩膜版清洁设备有效
申请号: | 201721749510.4 | 申请日: | 2017-12-14 |
公开(公告)号: | CN207731083U | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 朱广飞;章勇;闫明超 | 申请(专利权)人: | 深圳柔宇显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 黄德海 |
地址: | 518172 广东省深圳市龙岗区横*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型的掩膜版清洁设备用于清洁掩膜版。掩膜版包括透明基板、形成于透明基板上的铬层和与铬层相对设置的保护膜。掩膜版清洁设备包括基台、喷嘴杆和与喷嘴杆连接的控制器。基台用于承载掩膜版以使保护膜与基台相对。喷嘴杆包括可移动的设置在基台和掩膜版之间的气杆和设置在气杆上并用于朝保护膜吹气的多个气杆喷嘴。控制器用于控制喷嘴杆沿基本垂直于气杆的方向在基台和掩膜版之间移动。本实用新型的掩膜版清洁设备通过控制器控制喷嘴杆沿基本垂直于气杆的方向在基台和掩膜版之间移动并朝保护膜吹气。如此,使得保护膜各部分的清洁时间与吹气气压基本一致,从而避免了保护膜受压时间过长损坏和清洁不完全的情况,清洁效果好。 | ||
搜索关键词: | 掩膜版 保护膜 基台 喷嘴杆 气杆 清洁设备 本实用新型 透明基板 控制器 吹气 铬层 清洁 垂直 控制器控制 吹气气压 清洁效果 相对设置 喷嘴 可移动 移动 受压 承载 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜版清洁设备,用于清洁掩膜版,所述掩膜版包括透明基板、形成于所述透明基板上的铬层和与所述铬层相对设置的保护膜,其特征在于,所述掩膜版清洁设备包括:基台,所述基台用于承载所述掩膜版以使所述保护膜与所述基台相对;喷嘴杆,所述喷嘴杆包括可移动的设置在所述基台和所述掩膜版之间的气杆和设置在所述气杆上并用于朝所述保护膜吹气的多个气杆喷嘴;和与所述喷嘴杆连接的控制器,所述控制器用于控制所述喷嘴杆沿基本垂直于所述气杆的方向在所述基台和所述掩膜版之间移动。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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