[实用新型]光罩盒有效
| 申请号: | 201721419468.X | 申请日: | 2017-10-31 |
| 公开(公告)号: | CN207799329U | 公开(公告)日: | 2018-08-31 |
| 发明(设计)人: | 邱铭隆;陈延方 | 申请(专利权)人: | 中勤实业股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
| 代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马雯雯;臧建明 |
| 地址: | 中国台湾桃*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | 本实用新型提供一种光罩盒,包括第一盒体、第二盒体及锁扣机构。第一盒体具有多个第一定位部。第二盒体可沿第一方向相对第一盒体开合,并与第一盒体共同形成容置空间。第二盒体具有多个第二定位部,这些第二定位部与这些第一定位部相配合以共同定位并支撑光罩。锁扣机构包括设于第一盒体及第二盒体中的一者的滑扣单元,及设于第一盒体及第二盒体中的另一者的扣勾单元。当第二盒体与第一盒体相对盖合时,滑扣单元与扣勾单元可相互扣合以将光罩盒固定于闭合状态,且至少一第一定位部与至少一第二定位部沿垂直于第一方向的方向相互挡止。可提高作业时的便利性及可靠度,避免外界的杂物因盖合不确实而进入光罩盒污染光罩及光罩在传送过程中受到损伤。 | ||
| 搜索关键词: | 盒体 光罩盒 第二定位部 第一定位部 光罩 锁扣机构 滑扣 扣勾 本实用新型 闭合状态 传送过程 方向相对 容置空间 便利性 可靠度 挡止 盖合 开合 杂物 垂直 损伤 支撑 污染 配合 | ||
【主权项】:
1.一种光罩盒,其特征在于,包括:第一盒体,具有多个第一定位部;第二盒体,可沿第一方向相对所述第一盒体开合,并在盖合于所述第一盒体时与所述第一盒体共同形成容置空间,其中所述第二盒体具有多个第二定位部,所述多个第二定位部与所述多个第一定位部相配合以共同定位并支撑光罩;及锁扣机构,包括设于所述第一盒体及所述第二盒体中的一者的滑扣单元,及设于所述第一盒体及所述第二盒体中的另一者的扣勾单元,其中当所述光罩盒在所述第二盒体与所述第一盒体相对盖合的闭合状态下时,所述滑扣单元与所述扣勾单元可相互扣合以将所述光罩盒固定于所述闭合状态,且每一所述第一定位部与对应的所述第二定位部分别沿各垂直于所述第一方向的方向相互挡止,以阻止所述第一盒体与所述第二盒体沿垂直于所述第一方向的方向相对移动。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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