[实用新型]导磁半环电镀装置有效
申请号: | 201721368230.9 | 申请日: | 2017-10-23 |
公开(公告)号: | CN207512293U | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | 杨平汉;张超群;钱翊;郑亮;刘海涛 | 申请(专利权)人: | 上海第一机床厂有限公司 |
主分类号: | C25D17/06 | 分类号: | C25D17/06 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
地址: | 201308 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型属于核反应堆内部件加工生产技术领域,公开了一种导磁半环电镀装置,包括大支架和小支架,所述小支架通过支撑座设置在所述大支架内,所述大支架上设置第一支撑条,所述小支架上设置第二支撑条,在所述第一支撑条和第二支撑条上设置的电镀支撑组件包括在所述第一支撑条上设置的若干个短支撑和在所述第二支撑条上设置的若干个长支撑,所述短支撑和长支撑的位置相互错开,所述长支撑位于所述短支撑的下方,在所述小支架的上方设置提升组件,所述提升组件用于将小支架提升一个高度并固定,提升的高度位于第一距离与第二距离之间。本实用新型实现批量电镀,保证导磁半环的所有表面镀镍层质量及厚度满足要求。 | ||
搜索关键词: | 支撑条 小支架 导磁半环 长支撑 大支架 短支撑 本实用新型 电镀装置 提升组件 电镀 表面镀镍 核反应堆 加工生产 支撑组件 内部件 支撑座 错开 保证 | ||
【主权项】:
1.一种导磁半环电镀装置,其特征在于:包括大支架和小支架,所述大支架上设置支撑座,所述小支架通过支撑座设置在所述大支架内,所述大支架上设置第一支撑条,所述小支架上设置第二支撑条,所述第二支撑条位于第一支撑条的下方,在所述第一支撑条和第二支撑条上设置电镀支撑组件,所述电镀支撑组件包括在所述第一支撑条上设置的若干个短支撑和在所述第二支撑条上设置的若干个长支撑,短支撑和长支撑均用于将导磁半环支撑架空,所述短支撑和长支撑的位置相互错开,所述长支撑位于所述短支撑的下方,所述长支撑的顶端与短支撑的顶端之间的第一距离小于所述第二支撑条与第一支撑条之间的第二距离,在所述小支架的上方设置提升组件,所述提升组件用于将小支架提升一个高度并固定,提升的高度位于第一距离与第二距离之间。
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