[实用新型]电场辅助抛光装置及其导电抛光垫有效

专利信息
申请号: 201721126642.1 申请日: 2017-09-04
公开(公告)号: CN207239946U 公开(公告)日: 2018-04-17
发明(设计)人: 陈盈同 申请(专利权)人: 咏巨科技有限公司
主分类号: B24B37/04 分类号: B24B37/04;B24B37/20;B24B55/00
代理公司: 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙)11446 代理人: 武玉琴,刘国伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种电场辅助抛光装置及其导电抛光垫。电场辅助抛光装置包括转盘以及设置于转盘上的导电抛光垫。导电抛光垫具有研磨层、基底层以及电极层,研磨层的一侧表面具有抛光区,基底层设置于研磨层相反于抛光区的一侧,电极层设置于基底层,电极层具有电源接收端,电极层通过电源接收端接收一工作电压,且电极层于抛光区形成单一极性带电区。电极层的表面在对应于抛光区的位置具有均匀粗糙分布的微结构。以使得抛光区产生强度分布均匀的电场,而能够有助于整体研磨的效率与以及提高研磨的质量。
搜索关键词: 电场 辅助 抛光 装置 及其 导电
【主权项】:
一种导电抛光垫,所述导电抛光垫适用于一电场辅助抛光装置,其特征在于,所述导电抛光垫包括:一研磨层,其一侧表面具有一抛光区;一基底层,其设置于所述研磨层相反于所述抛光区的一侧;以及一电极层,其设置于所述基底层,所述电极层具有一电源接收端,所述电极层通过所述电源接收端以接收一工作电压;其中,所述电极层的表面在对应于所述抛光区的位置上具有均匀粗糙分布的一微结构。
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