[实用新型]电场辅助抛光装置及其导电抛光垫

权利要求书

1.一种导电抛光垫，所述导电抛光垫适用于一电场辅助抛光装置，其特征在于，所述导电抛光垫包括：

一研磨层，其一侧表面具有一抛光区；

一基底层，其设置于所述研磨层相反于所述抛光区的一侧；以及

一电极层，其设置于所述基底层，所述电极层具有一电源接收端，所述电极层通过所述电源接收端以接收一工作电压；

其中，所述电极层的表面在对应于所述抛光区的位置上具有均匀粗糙分布的一微结构。

2.根据权利要求1所述的导电抛光垫，其特征在于，电极层于所述抛光区形成一单一极性带电区。

3.根据权利要求1所述的导电抛光垫，其特征在于，所述微结构的中心线平均粗糙度介于0.5μm至50μm之间。

4.根据权利要求1所述的导电抛光垫，其特征在于，所述微结构的轮廓曲线要素的平均长度介于5μm至500μm之间。

5.根据权利要求1所述的导电抛光垫，其特征在于，所述电极层是采用导电材料制成，且表面具有均匀粗糙分布的微结构的单一片体。

6.根据权利要求1所述的导电抛光垫，其特征在于，所述电极层是由非导体的一载体与一导电材料组成的单一片体，所述导电材料形成在所述载体的表面上，且所述导电材料具有均匀粗糙度分布的微结构。

7.一种电场辅助抛光装置，其特征在于，所述电场辅助抛光装置包括：

一转盘；

一导电抛光垫，其设置于所述转盘上，所述导电抛光垫包括一研磨层、一基底层以及一电极层，所述研磨层的一侧表面具有一抛光区，所述基底层设置于所述研磨层相反于所述抛光区的一侧，所述电极层设置于所述基底层，所述电极层具有一电源接收端，所述电极层通过所述电源接收端接收一工作电压，且所述电极层于所述抛光区形成一单一极性带电区；

一载具，其设置于所述导电抛光垫上，所述载具用以固定一被研磨物；以及

一浆料配送单元，其设置于所述导电抛光垫上方，所述浆料配送单元用以提供一研磨液至所述抛光区；

其中，所述电极层的表面在对应于所述抛光区的位置具有均匀粗糙分布的一微结构。

8.根据权利要求7所述的电场辅助抛光装置，其特征在于，所述微结构的中心线平均粗糙度介于0.5μm至50μm之间，且所述微结构的最大高度粗糙度小于200μm。

9.根据权利要求7所述的电场辅助抛光装置，其特征在于，所述电极层是单一片体。