[实用新型]可阻止雷射加工沾黏现象的导光板处理设备有效

专利信息
申请号: 201721020140.0 申请日: 2017-08-15
公开(公告)号: CN207249162U 公开(公告)日: 2018-04-17
发明(设计)人: 林佳鸿 申请(专利权)人: 苏州茂立光电科技有限公司
主分类号: G02B6/00 分类号: G02B6/00
代理公司: 上海弼兴律师事务所31283 代理人: 胡美强,孙静
地址: 215151 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供一种可阻止雷射加工沾黏现象的导光板处理设备,用于实施在若干导光板上,各导光板相对设置的二表面上覆设有一保护膜,且各导光板具有相对设置的一预定加工面及一侧面,预定加工面及侧面与二表面垂直邻接。通过将导光板交错堆叠置放,使相邻的任二导光板的预定加工面相对设置,且任一侧面与相邻的预定加工面为非共平面状态,使任一侧面间隔于相邻的两预定加工面。由此,可阻止在对预定加工面进行雷射加工时,相邻的任二保护膜受热产生沾黏的现象,进而提高经雷射加工后的导光板的产品良率。
搜索关键词: 阻止 雷射 加工 现象 导光板 处理 设备
【主权项】:
一种可阻止雷射加工沾黏现象的导光板处理设备,用于针对若干导光板进行预处理,各该导光板相对设置的二表面分别覆设有一保护膜,且各该导光板具有相对设置的一预定加工面及一侧面,且该预定加工面及该侧面分别与该二表面垂直邻接,其特征在于:该导光板处理设备具有一移动装置及一导引夹具,该导引夹具对应该移动装置设置,该移动装置用于移动若干该导光板并将其置于该导引夹具,使若干该导光板交错堆叠置放,且相邻的任二该导光板的该预定加工面呈相对设置,且任一该侧面与相邻的该预定加工面为非共平面状态,任一该侧面还接触相邻的该表面。
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