[实用新型]磁性薄膜沉积腔室及薄膜沉积设备有效
| 申请号： | 201720855997.8 | 申请日： | 2017-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN207331049U | 公开（公告）日： | 2018-05-08 |
| 发明（设计）人： | 杨玉杰;张同文;马新艳;郑金果;王宽冒;郭浩;贾强 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;H01F41/18 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种磁性薄膜沉积腔室及薄膜沉积设备，其包括腔室主体，在该腔室主体内设置有基座，该基座包括用于承载待加工工件的承载面，并且磁性薄膜沉积腔室还包括偏置磁场装置，该偏置磁场装置包括第一磁体组，该第一磁体组设置在基座的下方，用于在基座上方形成第一水平磁场，该第一水平磁场用于使沉积在待加工工件上的磁性薄膜具有面内各向异性。本实用新型提供的磁性薄膜沉积腔室，其能够在基座上方形成足以诱发磁性薄膜的面内各向异性的水平磁场，满足生产型设备在大尺寸待加工工件上制备具有面内各向异性的磁性薄膜的需要。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性 薄膜 沉积 设备 | ||
【主权项】：
1.一种磁性薄膜沉积腔室，包括腔室主体，在所述腔室主体内设置有基座，所述基座包括用于承载待加工工件的承载面，其特征在于，还包括偏置磁场装置，所述偏置磁场装置包括第一磁体组，所述第一磁体组设置在所述基座的承载面下方，用于在所述基座上方形成第一水平磁场，所述第一水平磁场用于使沉积在所述待加工工件上的磁性薄膜具有面内各向异性。
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