[实用新型]一种改良型线性电阻片有效

专利信息
申请号: 201720702981.3 申请日: 2017-06-16
公开(公告)号: CN207021062U 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 刘晟睿 申请(专利权)人: 东莞福哥电子有限公司
主分类号: H01C10/10 分类号: H01C10/10;H01C10/26
代理公司: 东莞市永桥知识产权代理事务所(普通合伙)44400 代理人: 何新华
地址: 523378 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种改良型线性电阻片,包括长条状基板,所述基板上表面的两端均设有接触片组件,所述接触片组件包括设置在基板上表面一侧的接触片A、分别设置在基板上表面另一侧的接触片B、接触片C、接触片D、接触片E;所述基板的外表面依次设置有绝缘层A、碳层A、银层、硫化层、碳层B、绝缘层B。本实用新型的有益效果为通过在基板的外表面依次设置绝缘层A、碳层A、银层、硫化层、碳层B、绝缘层B,改变了基板上印刷层的结构设置,解决了绝缘层的扩散影响接触脚的接触精度的问题,从而提升电阻片的同步性。
搜索关键词: 一种 改良 线性 电阻
【主权项】:
一种改良型线性电阻片,包括长条状基板(10),所述基板(10)上表面的两端均设有接触片组件,所述接触片组件包括设置在基板(10)上表面一侧的接触片A(15)、分别设置在基板(10)上表面另一侧的接触片B(11)、接触片C(12)、接触片D(13)、接触片E(14);其特征在于,所述基板(10)的外表面依次设置有绝缘层A(20)、碳层A(30)、银层(40)、硫化层(50)、碳层B(60)、绝缘层B(70);所述绝缘层A(20)的形状和面积与基板(10)的外表面相同;所述绝缘层A(20)分别在与接触片A(15)、接触片B(11)、接触片C(12)、接触片D(13)、接触片E(14)对应的位置开设有镂空部(21);所述碳层A(30)包括碎片状碳层组A(31)和碎片状碳层组B(32),所述碎片状碳层组A(31)和碎片状碳层组B(32)均包括2片形状分别相同的碎片状碳层(33),所述碳层组A(31)靠近接触片A(15)一侧设置,所述碳层组B(32)靠近接触片C(12)和接触片D(13)一侧设置;所述银层(40)包括与接触片A(15)位置对应的银层块面A(45)、与接触片B(11)位置对应的银层块面B(46)、与接触片C(12)位置对应的银层块面C(47)、与接触片D(13)位置对应的银层块面D(48)、与接触片E(14)位置对应的银层块面E(49);所述银层块面A(45)包括依次连接的块面A(41)、块面B(42)、块面C(43)和块面D(44),所述块面A(41)对应设置在接触片A(15)的上方,所述块面D(44)设置在碳层组A(31)的上方,所述块面D(44)横跨碳层组A(31)的两碎片状碳层(33),所述块面B(42)和块面C(43)设置在块面A(41)和块面D(44)之间,所述银层块面C(47)横跨设置在与接触片C(12)位置对应的碎片状碳层(33)以及接触片C(12)的上方,所述银层块面D(48)横跨设置在与接触片D(13)位置对应的碎片状碳层(33)以及接触片D(13)的上方;所述块面B(42)和块面C(43)均设置为矩形,所述块面C(43)的长度与宽度均少于块面B(42);所述银层块面B(46)和银层块面E(49)靠向接触片A(15)的一侧边缘均延伸至与块面B(42)相对的位置;所述硫化层(50)的结构与银层(40)的结构相同,所述硫化层(50)对应覆盖在银层(40)的上方;所述碳层B(60)包括两条状块面(61),两所述条状块面(61)分别设置在块面D(44)与银层块面E(49)以及块面D(44)与银层块面D(48)之间;所述绝缘层B(70)设置在与块面C(43)对应的硫化层(50)上方,所述绝缘层B(70)的长度与块面C(43)的长度相等,所述绝缘层B(70)的宽度大于块面C(43)的宽度,所述绝缘层B(70)的宽度小于块面B(42)的宽度;所述块面A(41)覆盖在镂空部(21)上,所述银层块面B(46)、银层块面C(47)、银层块面D(48)、银层块面E(49)的一侧均对应覆盖在镂空部(21)上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞福哥电子有限公司,未经东莞福哥电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201720702981.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top