[实用新型]基板支撑装置及基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201720636937.7 申请日: 2017-05-31
公开(公告)号: CN206805049U 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 王浩 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司44202 代理人: 郝传鑫,熊永强
地址: 430070 湖北省武汉市武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型提供一种基板支撑装置及基板处理装置,通过控制基板从中间区域至边缘区域依次与支撑面接触,从而使得所述基板中间区域的空气依次向边缘区域一步步的排除,从进而实现将所述基板与所述支撑面之间的完全贴合,进而在后续的光阻涂布或者曝光等动作时更为精确。
搜索关键词: 支撑 装置 处理
【主权项】:
一种基板支撑装置,用于对基板进行支撑,其特征在于,包括工作台及多个顶针,所述工作台包括一支撑面及从所述支撑面向所述工作台内延伸的多个开孔,且所述多个开孔垂直于所述支撑面设置,所述多个顶针与所述多个开孔一一对应,所述顶针设于所述开孔内,并在所述开孔内进行沿开孔方向伸缩;每个所述顶针包括一支撑端;所述多个顶针伸出所述支撑面时,所述多个顶针的支撑端支撑所述基板远离所述支撑面;所述多个顶针收缩至所述开孔内时,所述基板移动至所述支撑面上,且所述基板的中间区域至边缘区域依次与所述支撑面贴合。
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