[实用新型]一种反射率分布测量系统有效
| 申请号： | 201720531102.5 | 申请日： | 2017-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN206990441U | 公开（公告）日： | 2018-02-09 |
| 发明（设计）人： | 马骅;张霖;杨一;任寰;石振东;原泉;马玉荣;陈波;杨晓瑜;柴立群 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G01N21/55 | 分类号： | G01N21/55 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人： | 宋南 |
| 地址： | 621900 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种反射率分布测量系统，属于光电子技术领域。该系统包括探测光产生装置、样品台、成像装置以及控制装置。样品台用于放置待测样品，成像装置位于样品台上放置的待测样品对于探测光产生装置发出的探测光束的反射光传播路径中，成像装置与控制装置耦合。当待测样品置于样品台上时，探测光产生装置发出的探测光束入射到待测样品表面的待测区域，由待测样品反射的探测光束入射到成像装置，在成像装置中所成的像被转换为电信号发送给控制装置。控制装置处理该电信号得到待测区域的反射图像，并根据该反射图像及基准图像得到该待测区域的反射率分布数据。这样能够有效地提高系统的采样率，减少检测时间，提高测量效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射率 分布 测量 系统 | ||
【主权项】：
一种反射率分布测量系统，其特征在于，包括探测光产生装置、样品台、成像装置以及控制装置，所述样品台用于放置待测样品，所述成像装置位于所述待测样品对所述探测光产生装置发出的探测光束的反射光传播路径中，所述成像装置与所述控制装置耦合；当待测样品置于所述样品台上时，所述探测光产生装置发出的探测光束入射到所述待测样品表面的待测区域，由所述待测样品反射的探测光束入射到所述成像装置，在所述成像装置中所成的像被转换为电信号发送给所述控制装置，以使所述控制装置根据所述电信号得到所述待测区域的反射图像，并根据所述反射图像及基准图像得到所述待测样品表面待测区域的反射率分布数据，其中，所述基准图像为所述成像装置采集的所述探测光产生装置发出的探测光束的图像。
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