[实用新型]一种电膜退镀及清洗设备有效
申请号: | 201720513998.4 | 申请日: | 2017-05-10 |
公开(公告)号: | CN206916219U | 公开(公告)日: | 2018-01-23 |
发明(设计)人: | 卢中用 | 申请(专利权)人: | 东莞市蒂造自动化科技有限公司 |
主分类号: | C23F4/00 | 分类号: | C23F4/00 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司44245 | 代理人: | 陈燕娴 |
地址: | 523330 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种电膜退镀及清洗设备,包括机架、设置在机架上方的机罩,所述机架上设置有物料传输装置、等离子处理装置,所述等离子处理装置位于所述物料传输装置的下方,所述物料传输装置在正对所述等离子处理装置的区域形成空隔。本实用新型提供的电膜退镀及清洗设备,能够有效避免了等离子枪体上的粉尘掉落在玻璃表面,保证了玻璃表面洁净度;此外,上料时无需人工翻面,提高了退镀效率;经达因笔测试,达因笔测试达印值>=36,有效防止等离子体因弹力作用损伤触摸屏玻璃,成品率得到了大幅度的提高。 | ||
搜索关键词: | 一种 电膜退镀 清洗 设备 | ||
【主权项】:
一种电膜退镀及清洗设备,包括机架、设置在机架上方的机罩,所述机架上设置有物料传输装置、等离子处理装置,其特征在于,所述等离子处理装置位于所述物料传输装置的下方,所述物料传输装置在正对所述等离子处理装置的区域形成空隔。
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