[实用新型]一种电膜退镀及清洗设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种电膜退镀及清洗设备，特别涉及一种适用于触摸屏玻璃AF背面和白玻璃电膜退镀及清洗设备。

背景技术

随着电子技术的发展，现在的电子设备大多都带有覆盖有玻璃的触摸显示屏。为了提高触摸屏抗指纹的性能，触摸屏的触控面通常会喷涂一层抗指纹(Anti-fingerprint)涂层，俗称触摸屏玻璃的AF面。但这种喷涂难免会在触摸屏玻璃的AF背面形成污染，这种污染非常容易影响显示屏的质量。为了降低喷涂AF面所带来的影响，提高显示屏的显示质量，在玻璃加工到显示屏时通常需要对触摸屏玻璃的AF背面进行退镀和清洗，以去除喷涂所带来的污染，以及去除玻璃表面的其他杂质。

然而现有的等离子退镀及清洗设备，存在这样的缺陷：一方面等离子枪体上的粉尘容易掉落在玻璃上，从而对玻璃形成二次污染；另一方面在退镀及清洗的过程中，等离子体容易因弹力作用而对摸屏玻璃的AF面造成损伤；此外，由于触摸屏琉璃的AF面在喷涂后需要朝上放置，以避免刮伤，因此现有的等离子退镀及清洗设备在退镀及清洗前，需要对待清洗的玻璃进行人工翻面，将AF面朝下放入传输带，退镀效率较低。

实用新型内容

针对上述不足，本实用新型为解决上述技术问题，提供了一种电膜退镀及清洗设备，一方面能够有效防止因等离子枪体粉尘掉落玻璃形成二次污染，另一方面还能够有效防止等离子体因弹力作用造成对AF面的损伤，除此之外，本实用新型所提供的电膜退镀及清洗设备在退镀过程中，无需人工翻面，可直接将触摸屏玻璃AF背面放入设备中退镀，提升了退镀效率。

本实用新型通过以下技术手段解决上述技术问题：一种电膜退镀及清洗设备，包括机架、设置在机架上方的机罩，所述机架上设置有物料传输装置、等离子处理装置，所述等离子处理装置位于所述物料传输装置的下方，所述物料传输装置在正对所述等离子处理装置的区域形成空隔。

进一步的，所述机罩上设置有排气装置，该排气装置的气流通道正对所述空隔。

进一步的，所述物料传输装置包括托辊，与所述托辊配合使用的压辊，以及带动所述托辊的托辊输送电机。

更进一步的，在所述托辊的表面设置有输送滚轮，在所述压辊的表面设置有压轮。

进一步的，所述等离子处理装置通过移动系统在所述空隔实现移动。

更进一步的，所述移动系统包括导轨，安装在导轨上的等离子固定块，驱动所述等离子固定块移动的伺服电机。

进一步的，所述机架上还设置有控制系统和触摸屏，所述触摸屏与控制系统电连接，所述物料传输装置和等离子处理装置分别与控制系统电连接。

由于等离子处理装置位于物料传输装置的下方，避免了等离子枪体上的粉尘掉落在玻璃表面，有效地保证了玻璃表面洁净度。

由于物料传输装置在正对等离子处理装置的区域是中空的空隔地带，与等离子处理装置正对的区域无托辊和压辊，能够避免等离子处理装置喷射出来的等离子体与物料传输装置进行直接碰撞，从而有效防止等离子体因弹力作用损伤触摸屏玻璃AF面，提高了成品率。

由于等离子处理装置位于物料传输装置的下方，需要退镀的触摸屏玻璃AF背面通常是朝下放置(触摸屏玻璃AF面需要朝上放置以保护AF涂层面)，因此，在上料时，无需要翻面，可直接将触摸屏玻璃放入在物料传输装置上，当触摸屏玻璃进行清洗区域后，位于物料传输装置下方的等离子处理装置可直接对触摸屏玻璃AF背面进行退镀，极大地提高了退镀及清洗效率。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步描述。

图1为实施例所述等离子退镀及清洗设备的结构示意图；

图2为实施例所述等离子退镀及清洗设备的内部结构透视图；

图3为实施例所述颈枕的等离子退镀及清洗设备的物料传输装置与等离子处理装置的位置关系示意图；

图4为实施例所述颈枕的等离子退镀及清洗设备的物料传输装置与等离子处理装置的侧面结构示意图；

图5为实施例所述颈枕的等离子退镀及清洗设备的清洗区域结构示意图。

图6为实施例所述颈枕的等离子退镀及清洗设备的物料传输装置与等离子处理装置的侧面结构示意图；

图7为实施例所述等离子退镀及清洗设备的俯视图；

图8为实施例所述等离子退镀及清洗设备的工作过程示意图。

具体实施方式