[实用新型]一种对聚酰亚胺衬底的两面进行镀制的溅射装置有效
| 申请号： | 201720290190.4 | 申请日： | 2017-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN206599603U | 公开（公告）日： | 2017-10-31 |
| 发明（设计）人： | 董凤林;崔海波;李剑辉;张坚 | 申请（专利权）人： | 成都南光机器有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/20 | 分类号： | C23C14/20;C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司51230 | 代理人： | 杨保刚,李春芳 |
| 地址： | 610000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型记载了一种对聚酰亚胺衬底的两面进行镀制的溅射装置，包括真空室，真空室内设置有对聚酰亚胺衬底进行输送的传送设备，传送设备的一侧设置有对聚酰亚胺衬底的背面进行溅射的溅射机构A，传送设备的另一侧设置有对聚酰亚胺衬底正面进行溅射的溅射机构B。本实用新型新增了对聚酰亚胺衬底背面进行溅射的溅射机构A，对聚酰亚胺衬底的背面事先预镀一层耐磨材料，提前通过背面溅射镀膜方式加入背面预应力，通过后续的溅射机构B对聚酰亚胺衬底的正面进行磁控溅射镀膜后来实现应力的平衡，避免出现应力释放造成薄膜损坏的现象发生。于此同时，也将聚酰亚胺衬底应力变形减少到了最小，提高了成膜的平整度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 聚酰亚胺 衬底 两面 进行 溅射 装置 | ||
【主权项】：
一种对聚酰亚胺衬底的两面进行镀制的溅射装置，其特征在于：包括真空室(1)，真空室(1)内设置有对聚酰亚胺衬底(2)进行输送的传送设备，传送设备的前方一侧设置有对聚酰亚胺衬底(2)的背面进行溅射的溅射机构A(3)，传送设备的后方另一侧设置有对聚酰亚胺衬底(2)正面进行溅射的溅射机构B(4)。
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