[实用新型]一种对聚酰亚胺衬底的两面进行镀制的溅射装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种溅射装置，尤其涉及一种对聚酰亚胺衬底的两面进行镀制的溅射装置。

背景技术

CIGS柔性薄膜电池所使用的CIGS薄膜在制作时需要在PI(聚酰亚胺)衬底镀制多层不同的材料，在镀制这些材料以前需要在PI(聚酰亚胺)衬底上先镀制一层金属背电极钼(Mo)，然后是功能层P：CIGS薄膜的沉积，缓冲层N：硫化镉CDS沉积，透明导电层：ZnO/ITO薄膜沉积。在对PI(聚酰亚胺)衬底镀制材料时，一般都是通过磁控卷绕溅射装置进行溅射，传统磁控卷绕溅射装置如附图1所示，主要是通过冷却辊筒周围的若干只磁控靶工作来实现对薄膜的建设成膜。传统磁控卷绕溅射系统单面成膜，会产生薄膜的擦伤现象，更主要的是，经过一定时间后，单面薄膜会产生应力释放现象，薄膜会产生微小裂纹，造成薄膜的损坏。

实用新型内容

为解决传统磁控卷绕溅射系统单面成膜会产生应力释放现象而造成薄膜损坏的缺陷，本实用新型特提供一种对聚酰亚胺衬底的两面进行镀制的溅射装置。

本实用新型的技术方案如下：

一种对聚酰亚胺衬底的两面进行镀制的溅射装置，包括真空室，真空室内设置有对聚酰亚胺衬底进行输送的传送设备，传送设备的一侧设置有对聚酰亚胺衬底的背面进行溅射的溅射机构A，传送设备的另一侧设置有对聚酰亚胺衬底正面进行溅射的溅射机构B。本方案新增了对聚酰亚胺衬底背面进行溅射的溅射机构A，对聚酰亚胺衬底的背面事先预镀一层耐磨材料，提前通过背面溅射镀膜方式加入背面预应力，通过后续的溅射机构B对聚酰亚胺衬底的正面进行磁控溅射镀膜后来实现应力的平衡，避免出现应力释放造成薄膜损坏的现象发生。于此同时，也将聚酰亚胺衬底应力变形减少到了最小，提高了成膜的平整度。

作为本实用新型的优选，所述传送设备包括放卷辊筒、过辊、冷却辊、收卷辊筒，放卷辊筒、收卷辊筒分别设置在冷却辊的上方两侧，过辊高于冷却辊，所述溅射机构A位于冷却辊的上方并设置在过辊的下方右侧，溅射机构B设置在冷却辊的外侧。在需对聚酰亚胺衬底镀膜时，将聚酰亚胺衬底的一端卷绕在放卷辊筒上，另一端经过辊、冷却辊后缠绕在收卷辊筒上。开启放卷辊筒、收卷辊筒即可实现聚酰亚胺衬底的传送，在传动过程中，位于过辊下方右侧的溅射机构A将对聚酰亚胺衬底的背面进行溅射，当经过冷却辊时，溅射机构B将对聚酰亚胺衬底的正面进行溅射，于此，便完成了对聚酰亚胺衬底的正、反两面的镀膜。

进一步地，所述溅射机构A在过辊至冷却辊之间从上至下设置有多个。在本方案中，溅射机构A设置有多个，保证聚酰亚胺衬底的背面能够被均匀完全地溅射镀膜。

为更好地实现本实用新型，所述溅射机构B围绕冷却辊设置有多个。在本方案中，溅射机构B设置有多个，保证聚酰亚胺衬底的正面能够被均匀完全地溅射镀膜。

进一步地，所述放卷辊筒与过辊之间还设置有过辊A、过辊B，过辊A、过辊B交错设置。在本方案中，交错设置的过辊A、过辊B增加了对聚酰亚胺衬底的牵引张力，保证在传送过程中聚酰亚胺衬底能够被拉直，不会出现皱弯的现象，避免对聚酰亚胺衬底的背面镀膜不均匀。

作为本实用新型的优选，所述过辊与冷却辊间设置有展平辊，展平辊位于溅射机构A的下方。在本方案中，展平辊的设置用于将聚酰亚胺衬底展平，防止产生折皱，便于较好的绕至在冷却辊上进行冷却。

进一步地，所述冷却辊包括转轴以及设置在转轴外的辊筒，辊筒内填充有冷却水。在本方案中，辊筒内填充有冷却水，在成卷时能够对镀膜的聚酰亚胺衬底降温以减少变形。

综上所述，本实用新型的有益效果是：

1、本方案新增了对聚酰亚胺衬底背面进行溅射的溅射机构A，对聚酰亚胺衬底的背面事先预镀一层耐磨材料，提前通过背面溅射镀膜方式加入背面预应力，通过后续的溅射机构B对聚酰亚胺衬底的正面进行磁控溅射镀膜后来实现应力的平衡，避免出现应力释放造成薄膜损坏的现象发生。于此同时，也将聚酰亚胺衬底应力变形减少到了最小，提高了成膜的平整度。

2、在需对聚酰亚胺衬底镀膜时，将聚酰亚胺衬底的一端卷绕在放卷辊筒上，另一端经过辊、冷却辊后缠绕在收卷辊筒上。开启放卷辊筒、收卷辊筒即可实现聚酰亚胺衬底的传送，在传动过程中，位于过辊下方右侧的溅射机构A将对聚酰亚胺衬底的背面进行溅射，当经过冷却辊时，溅射机构B将对聚酰亚胺衬底的正面进行溅射，于此，便完成了对聚酰亚胺衬底的正、反两面的镀膜。

3、溅射机构A设置有多个，保证聚酰亚胺衬底的背面能够被均匀完全地溅射镀膜。

4、溅射机构B设置有多个，保证聚酰亚胺衬底的正面能够被均匀完全地溅射镀膜。