[实用新型]一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统有效
| 申请号： | 201720269679.3 | 申请日： | 2017-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN207042935U | 公开（公告）日： | 2018-02-27 |
| 发明（设计）人： | 向军;朱永根 | 申请（专利权）人： | 深圳市佐藤科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/00 |
| 代理公司： | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙)11638 | 代理人： | 王新爱 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明新区公*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统，包括储液桶、清洗瓶以及负压罐，储液桶与清洗瓶之间通过水管连通，水管上设有单向阀门，清洗瓶上方设有采样针固定夹，清洗瓶底部设有超声波发生器，清洗瓶底部还开有出液孔，出液孔连接排液管，排液管与负压罐连通，负压罐底部通过负压管连接负压泵，负压罐底部还设有排污管，本实用新型结构简单，使用方便，能够实现对采样针的快速清洗，清洗效率高，同时排出的废液不会污染环境。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 发光 仪器 负压式 清洗 系统 | ||
【主权项】：
一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统，包括储液桶(1)、清洗瓶(2)以及负压罐(3)，其特征在于：所述储液桶(1)与清洗瓶(2)之间通过水管(4)连通，所述水管(4)上设有第一单向阀门(5)，所述清洗瓶(2)上方设有采样针固定夹(6)，所述采样针固定夹(6)上固定采样针(7)，所述清洗瓶(2)底部设有超声波发生器(8)，所述清洗瓶(2)底部还开有出液孔(9)，所述出液孔(9)连接排液管(10)，所述排液管(10)与负压罐(3)连通，所述负压罐(3)底部通过负压管(12)连接负压泵(13)，所述负压罐(3)底部还设有排污管(14)；所述水管(4)包括管体(15)，所述管体(15)内腔设有活性炭过滤层(16)和银离子活性炭过滤层(17)，所述活性炭过滤层(16)和银离子活性炭过滤层(17)之间设有网状隔板(18)；所述排污管(14)内侧固定有净化腔(19)，所述净化腔(19)包括负离子过滤膜(20)、Heap滤膜(21)与活性炭滤膜(22)，所述Heap滤膜(21)设置在负离子过滤膜(20)与活性炭滤膜(22)之间；所述排污管(14)上固定有第二单向阀门(11)。
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