[实用新型]一种直写式光刻机设备有效
申请号: | 201720256842.2 | 申请日: | 2017-03-16 |
公开(公告)号: | CN206741195U | 公开(公告)日: | 2017-12-12 |
发明(设计)人: | 陈海巍 | 申请(专利权)人: | 无锡影速半导体科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司23211 | 代理人: | 张勇 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新吴*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种直写式光刻机设备,属于直写曝光技术领域。本实用新型的直写式光刻机设备采用光路覆盖1/n个整板面积的方式来完成超大板和普通板的兼顾生产,使其在生产超大板时能够有与现有超大板LDI同等的生产产能和效果,生产普通板时能与普通板LDI拥有同等的生产产能和效果,提高设备的利用率和适用性。 | ||
搜索关键词: | 一种 直写式 光刻 设备 | ||
【主权项】:
一种直写式光刻机设备,包括吸盘和多个光路组件;其特征在于,所述光路组件单个与单个之间相对位置固定;所述多个光路组件是覆盖1/n个吸盘的光路组件,且n大于1。
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