[实用新型]研磨垫及化学机械研磨装置有效
| 申请号： | 201720255456.1 | 申请日： | 2017-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN206567983U | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 谭玉荣 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 300385 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种研磨垫及化学机械研磨装置，所述研磨垫包括研磨垫本体，所述研磨垫本体的上表面用于与一待研磨晶圆的正面接触以实现化学机械研磨；多个凹槽，所述凹槽设置于所述研磨垫本体的上表面，且多个所述凹槽之间相互连通；当研磨液滴到所述研磨垫的某一位置处时，相互导通的凹槽会使得研磨液在研磨垫上快速分散，使得研磨垫上均设置有研磨液，从而提高化学机械研磨的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 化学 机械 装置 | ||
【主权项】：
一种研磨垫，用于化学机械研磨，其特征在于，包括：研磨垫本体，所述研磨垫本体的上表面用于与一待研磨晶圆的正面接触以实现化学机械研磨；多个凹槽，所述凹槽设置于所述研磨垫本体的上表面，且多个所述凹槽之间相互连通。
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