[实用新型]上保温结构及晶体生长设备有效
申请号: | 201720224742.1 | 申请日: | 2017-03-09 |
公开(公告)号: | CN206706252U | 公开(公告)日: | 2017-12-05 |
发明(设计)人: | 戎峻;杨勇;陈翼;汪志伟 | 申请(专利权)人: | 青海晶煜晶体科技有限公司 |
主分类号: | C30B17/00 | 分类号: | C30B17/00;C30B29/20 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人: | 刘哲源 |
地址: | 810000 青*** | 国省代码: | 青海;63 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种上保温结构及晶体生长设备,涉及泡生法制造蓝宝石技术领域,所述上保温结构,包括沿上下方向层叠且间隔设置的多个环形热屏,所述多个环形热屏同心设置;每层环形热屏用于将下方辐射来的热量反射到下方;自下而上,所述上保温结构包括温差部、散热部和保温部,所述温差部包括多个第一环形热屏,自下而上,所述多个第一环形热屏的内径逐渐增大;所述散热部包括多个第二环形热屏,所述第二环形热屏的内径大于所述多个第一环形热屏中的任意一个;所述保温部包括多个第三环形热屏,所述第三环形热屏的内径小于所述多个第一热屏中的任意一个。可以增加扩肩时期,径向的温度差,增大温度调节范围,使晶体生长更容易控制。 | ||
搜索关键词: | 保温 结构 晶体生长 设备 | ||
【主权项】:
一种上保温结构,其特征在于,包括沿上下方向层叠且间隔设置的多个环形热屏,所述多个环形热屏同心设置;每层环形热屏用于将下方辐射来的热量反射到下方;自下而上,所述上保温结构包括温差部、散热部和保温部,所述温差部包括多个第一环形热屏,自下而上,所述多个第一环形热屏的内径逐渐增大;所述散热部包括多个第二环形热屏,所述第二环形热屏的内径大于所述多个第一环形热屏中的任意一个;所述保温部包括多个第三环形热屏,所述第三环形热屏的内径小于所述多个第一热屏中的任意一个。
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