[实用新型]一种用于光刻机的新型UV曝光系统有效
| 申请号： | 201720190164.4 | 申请日： | 2017-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN206684475U | 公开（公告）日： | 2017-11-28 |
| 发明（设计）人： | 贾亚飞 | 申请（专利权）人： | 贾亚飞 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100094 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于光刻机的新型UV曝光系统，包括UV LED灯组，作为曝光系统的光源；聚光组，用于汇聚和整形多颗UV LED发出的光束，提高光能利用率；匀光组，用于将光束细分，起到匀光的作用；准直组，用于整形和准直光束，提高准直度。通过以上光学组件，每颗UV LED发出的光都能均匀投射到工作面，多颗UV LED发出的光相互叠加，达到高光强、高均匀性、高准直度的效果，实现了作为光刻机曝光系统的全部性能指标。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 新型 uv 曝光 系统 | ||
【主权项】：
一种用于光刻机的新型UV曝光系统，其特征在于，包括：UV LED灯组，聚光组，匀光组和准直组；所述UV LED灯组，作为曝光系统的光源，用于发射紫外光束；所述聚光组，用于汇聚和整形多颗UV LED发出的光束，提高光能利用率；所述匀光组，用于将光束细分，起到匀光的作用；所述准直组，用于整形和准直光束，提高准直度。
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