[实用新型]一种用于光刻机的新型UV曝光系统

权利要求书

1.一种用于光刻机的新型UV曝光系统，其特征在于，包括：UV LED灯组，聚光组，匀光组和准直组；

所述UV LED灯组，作为曝光系统的光源，用于发射紫外光束；

所述聚光组，用于汇聚和整形多颗UV LED发出的光束，提高光能利用率；

所述匀光组，用于将光束细分，起到匀光的作用；

所述准直组，用于整形和准直光束，提高准直度。

2.根据权利要求1所述的一种用于光刻机的新型UV曝光系统，其特征是，所述UV LED灯组包括多颗UV LED，其排布形式由中心向周围环形排布，总个数由被照射工作面的辐照度要求决定；UV LED中心波长在紫外区域，具体波长由工艺要求决定。

3.根据权利要求1所述的一种用于光刻机的新型UV曝光系统，其特征是，所述聚光组按照光束传播的方向依次包括：汇聚单元，每颗UV LED对应一个汇聚单元，每个汇聚单元由多片单透镜组成，用于将UV LED发出的大角度光汇聚，同时将光束汇聚到扩束单元前焦点处；扩束单元，由一片或两片单透镜组成，用于将所述汇聚单元收集的光线整体平行投射到匀光组。

4.根据权利要求1所述的一种用于光刻机的新型UV曝光系统，其特征是，所述匀光组由多颗小透镜按照任意3个相邻小透镜中心连线为正三角形的方式紧密排列组成，用于将所述聚光组投射的光斑细分，类似形成多个独立的小光源，多个独立的小光源的出射光在工作面互相叠加，达到匀光的目的。

5.根据权利要求1所述的一种用于光刻机的新型UV曝光系统，其特征是，所述准直组按照光束传播的方向依次包括：场镜，用于将轴外光线向中心偏折，提高光能利用率和均匀性；反射镜，用于改变光束的传播方向，使整个系统的结构更加紧凑；长焦距透镜，用于扩展和准直光束。