[发明专利]一种投影物镜光学系统及光刻机有效
| 申请号： | 201711488619.1 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN109991816B | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 侯宝路 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/22 | 分类号： | G02B13/22 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种投影物镜光学系统及光刻机，将掩模图形从物平面经过光学系统传送到像平面，其特征在于，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面一侧依次包括：具有负光焦度的第一透镜组；具有正光焦度的第二透镜组；具有正光焦度的第三透镜组；孔径光阑；具有正光焦度的第四透镜组；所述第四透镜组与第三透镜组关于孔径光阑对称；具有正光焦度的第五透镜组；所述第五透镜组与第二透镜组关于孔径光阑对称；以及具有负光焦度的第六透镜组；所述第六透镜组与第一透镜组关于孔径光阑对称。本发明提供的一种适用于g、h、i三线波长的大视场投影物镜光学系统，在保证成像像质的同时，显著提高曝光产率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 物镜 光学系统 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种投影物镜光学系统，将掩模图形从物平面经过光学系统传送到像平面，其特征在于，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面一侧依次包括：具有负光焦度的第一透镜组；具有正光焦度的第二透镜组；具有正光焦度的第三透镜组；孔径光阑；具有正光焦度的第四透镜组，所述第四透镜组与第三透镜组关于孔径光阑对称；具有正光焦度的第五透镜组，所述第五透镜组与第二透镜组关于孔径光阑对称；以及具有负光焦度的第六透镜组，所述第六透镜组与第一透镜组关于孔径光阑对称。
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