[发明专利]一种投影物镜光学系统及光刻机

权利要求书

1.一种投影物镜光学系统，将掩模图形从物平面经过光学系统传送到像平面，其特征在于，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面一侧依次为：

具有负光焦度的第一透镜组；

具有正光焦度的第二透镜组；

具有正光焦度的第三透镜组；

孔径光阑；

具有正光焦度的第四透镜组，所述第四透镜组与第三透镜组关于孔径光阑对称；

具有正光焦度的第五透镜组，所述第五透镜组与第二透镜组关于孔径光阑对称；以及

具有负光焦度的第六透镜组，所述第六透镜组与第一透镜组关于孔径光阑对称；

其中，所述第二透镜组包含具有正光焦度的子透镜组和具有负光焦度的子透镜组，所述第二透镜组至少包含两片双凹透镜。

2.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其特征在于，所述第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组满足以下关系式：

-0.5f2/f1-0.2

-0.5f3/f1-0.2

-0.5f4/f6-0.2

-0.5f5/f6-0.2

其中：f1为第一透镜组的焦距，f2为第二透镜组的焦距，f3为第三透镜组的焦距,f4为第四透镜组的焦距，f5为第五透镜组的焦距，f6为第六透镜组的焦距。

3.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其特征在于，所述第一透镜组至少包含一片双凹镜头。

4.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其特征在于，所述具有正光焦度的子透镜组包括第一弯月正透镜、双凸正透镜、第二弯月正透镜，所述具有负光焦度的子透镜组包括弯月负透镜、双凸正透镜、第一双凹负透镜和第二双凹负透镜。

5.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其特征在于，所述第二透镜组至少包含两片相同材料的双凹透镜，所述双凹透镜的材料为SILICA、SFSL5Y或BSL7Y。

6.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其特征在于，所述第三透镜组包括第一双凸正透镜、双凹负透镜、第二双凸正透镜、弯月负透镜和第三双凸正透镜。

7.根据权利要求1或6所述的投影物镜光学系统，其特征在于，所述第三透镜组包含至少两片由高色散材料制成的镜片，所述高色散材料为CAF2、NFK51A或NIGS4786。

8.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其特征在于，所述投影物镜光学系统的物方数值孔径≤0.14。

9.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其特征在于，所述投影物镜光学系统的像方半视场≤67.5mm。

10.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其特征在于，所述投影物镜光学系统的放大倍率为-1x。

11.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其特征在于，所述投影物镜光学系统采用的镜片均为球面镜片，所述镜片的数量≤26片。

12.根据权利要求1所述的投影物镜光学系统，其特征在于，所述投影物镜光学系统的物像距≤1200mm，物方远心和像方远心均＜6.5mrad，物距和像距均≥50mm。

13.根据权利要求1-6或8-12中任一项所述的投影物镜光学系统，其特征在于，所述投影物镜光学系统适用于g、h、i三线波长。

14.一种光刻机，其特征在于，包含如权利要求1-13中任一项所述的投影物镜光学系统。