[发明专利]光波导元件及其制造方法有效
| 申请号： | 201711480957.0 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN109975924B | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 杨智仁;黄莉婷;陈东森;吕奇明 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122;G02B6/12;G02B6/136 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 秦剑 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光波导元件，包括下包覆层、核心层及上包覆层，核心层置于下包覆层及上包覆层之间。下包覆层的组成物包括不可被蚀刻的已闭环的聚酰亚胺及片状粘土，其中下包覆层之片状粘土的重量百分比介于20％至60％之间。核心层的组成物包括可被蚀刻的已闭环的聚酰亚胺及片状粘土，其中核心层的片状粘土的重量百分比介于20％至60％之间。上包覆层的组成物包括聚合物及片状粘土，其中上包覆层的片状粘土的重量百分比介于20％至60％之间。核心层的折射率大于上包覆层及下包覆层的折射率。 | ||
| 搜索关键词： | 波导 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光波导元件，包括：下包覆层，其组成物包括不可被蚀刻的已闭环的聚酰亚胺及片状粘土，其中该下包覆层的该片状粘土的重量百分比介于20％至60％之间；核心层，其组成物包括可被蚀刻的已闭环的聚酰亚胺及片状粘土，其中该核心层的该片状粘土的重量百分比介于20％至60％之间；以及上包覆层，其组成物包括聚合物及片状粘土，其中该上包覆层的该片状粘土的重量百分比介于20％至60％之间，其中该核心层置于该下包覆层及该上包覆层之间，该核心层的折射率大于该上包覆层及该下包覆层的折射率。
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