[发明专利]一种等离子处理系统和等离子处理系统的运行方法有效
| 申请号： | 201711480475.5 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN109994358B | 公开（公告）日： | 2021-04-27 |
| 发明（设计）人： | 雷仲礼;王谦 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 朱成之 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子处理系统，包括：一传输腔，传输腔包括多个侧壁，每个侧壁上都连接有多个处理腔，每个处理腔内包括一个基座，基座上包括一个中心点；连接到同一个侧壁的至少两个处理腔构成一个处理腔组，其中第一处理腔组中两个基座的中心点之间具有第一距离，第二处理腔组中的两个基座的中心点之间具有第二距离，其中第一距离大于第二距离；所述传输腔中包括一个机械传输装置，基座上包括两个可独立运动的机械臂；且所述两个机械臂均包括多个旋转轴和多个旋转臂，其中每个机械臂最上方的旋转臂的远端还包括一个终端抓取器，用于抓取基片。本发明机械传输装置可以在同时从具有第一距离和第二距离的处理腔组中取放基片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 处理 系统 运行 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子处理系统，包括：一传输腔，传输腔包括多个侧壁，每个侧壁上都连接有多个处理腔，传输腔侧壁和每个处理腔之间还包括一个气密阀门；每个处理腔内包括一个基座，用于放置基片，所述基座上包括一个中心点，与放置在基座上的基片的中心点位置对应；其中连接到同一个侧壁的至少两个处理腔构成一个处理腔组，其中第一处理腔组中两个基座的中心点之间具有第一距离，第二处理腔组中的两个基座的中心点之间具有第二距离，其中第一距离大于第二距离；所述传输腔中包括一个机械传输装置，所述机械传输装置包括一个可沿着一个中心旋转轴旋转的基座，所述中心旋转轴位于机械传输装置的中心点，基座上包括两个可独立运动的机械臂，所述两个机械臂对称安装在所述旋转基座中心旋转轴两侧；且所述两个机械臂均包括多个旋转轴和多个旋转臂，其中每个机械臂最上方的旋转臂的远端还包括一个终端抓取器，用于抓取基片。
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