[发明专利]一种基于CCD相干因子检测装置的最佳像面调校方法在审
| 申请号： | 201711444280.5 | 申请日： | 2018-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN108037643A | 公开（公告）日： | 2018-05-15 |
| 发明（设计）人： | 曹益平 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610065 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于CCD相干因子检测装置的最佳成像面调校方法，该检测装置用于检测光学投影曝光光刻系统中透镜轴向CCD离焦情况，包括激光器、平面反射镜、透镜、CCD图像传感器、手动X‑Y位移平台。本发明所提最佳成像面调校方法，首先利用CCD采集激光光斑图像，根据光斑、重心能量的改变情况移动X‑Y位移平台进行粗调；其次分别建立微调评价函数和精调评价函数移动X‑Y位移平台进行微调和精调；最后实现CCD在最佳像面的校准。本发明操作简单，检测灵敏度，提高了检测效率和可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 ccd 相干 因子 检测 装置 最佳 调校 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于CCD相干因子检测装置的最佳成像面调校方法，其特征在于，该检测装置用于检测光学投影曝光光刻系统中透镜轴向CCD离焦情况，包括激光器、平面反射镜、透镜、CCD图像传感器、手动X-Y位移平台；本发明其特征在于利用光斑大小，重心能量以及对焦评价函数分别在不同离焦量的情况下作为评价标准，根据测量结果如果不在焦平面手动调整X-Y位移平台通过粗调、微调、精调实现最佳成像面的调校。
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