[发明专利]一种均匀气流激光剥蚀池及其应用

摘要

本发明涉及一种均匀气流激光剥蚀池及其应用，所述激光剥蚀池包括均匀气流发生器、样品室和样品导出部，所述均匀气流发生器包括壁部、发生器内腔、将发生器内腔分隔成第一缓冲区和第二缓冲区的单层缓冲筛板、在所述第一缓冲区中植入一金属气管，所述金属气管的外端为气体入口，所述金属气管的管壁上设置有至少5个散气孔，孔口开向发生器内腔上壁；所述样品室与第二缓冲区通过一多层筛板气体连通，所述样品导出部与所述样品室流体连通；所述样品导出部设置有导出口。本发明能够提供均匀的气流来降低不同剥蚀位置的粒子传输效率，从而降低位置效应对同位素分馏结果准确度和精确度的影响，在高精度同位素组成分析领域具有重要的应用价值。

主权项

1.一种均匀气流激光剥蚀池，包括均匀气流发生器、样品室和样品导出部，其特征在于：所述均匀气流发生器包括壁部、由所述壁部围成的发生器内腔、将所述发生器内腔分隔成第一缓冲区和第二缓冲区的具有缓冲网区的单层缓冲筛板、由所述壁部植入所述第一缓冲区中的金属气管；所述金属气管的外端为气体入口，所述金属气管植入所述第一缓冲区中的部分设置有至少5个散气孔，所述至少5个散气孔被设置成使得从气体入口导入的气体朝向远离所述单层缓冲筛板的一侧散放；所述第一缓冲区与第二缓冲区通过所述单层缓冲筛板气体连通，所述样品室与所述第二缓冲区通过多层筛板气体连通，所述样品导出部与所述样品室流体连通；所述样品导出部设置有导出口。