[发明专利]一种均匀气流激光剥蚀池及其应用

权利要求书

1.一种均匀气流激光剥蚀池，包括均匀气流发生器、样品室和样品导出部，其特征在于：

所述均匀气流发生器包括壁部、由所述壁部围成的发生器内腔、将所述发生器内腔分隔成第一缓冲区和第二缓冲区的具有缓冲网区的单层缓冲筛板、由所述壁部植入所述第一缓冲区中的金属气管；

所述金属气管的外端为气体入口，所述金属气管植入所述第一缓冲区中的部分设置有至少5个散气孔，所述至少5个散气孔被设置成使得从气体入口导入的气体朝向远离所述单层缓冲筛板的一侧散放；

所述第一缓冲区与第二缓冲区通过所述单层缓冲筛板气体连通，所述样品室与所述第二缓冲区通过多层筛板气体连通，所述样品导出部与所述样品室流体连通；

所述样品导出部设置有导出口。

2.根据权利要求1所述的均匀气流激光剥蚀池，其特征在于：

所述单层缓冲筛板设置在所述发生器内腔大致中央的位置；和/或所述缓冲网区分布在所述单层缓冲筛板大致中央的位置。

3.根据权利要求1所述的均匀气流激光剥蚀池，其特征在于：

所述样品室垂直连接在所述均匀气流发生器大致中央的位置。

4.根据权利要求1所述的均匀气流激光剥蚀池，其特征在于：

所述样品导出部呈水滴状。

5.根据权利要求1所述的均匀气流激光剥蚀池，其特征在于：

所述均匀气流发生器与所述样品室呈长方体状；

所述均匀气流发生器的长度为50mm，宽度为8mm，并且高度为25mm；

所述样品室的长度为50mm，宽度为3.6mm，并且高度为60mm；

所述样品导出部的高度为50mm；

所述多层筛板的长度为50mm，宽度为3.6mm；

所述单层缓冲筛板上的缓冲网区的长度为50mm，宽度为3.6mm。

6.根据权利要求1所述的均匀气流激光剥蚀池，其特征在于：

所述样品室内设置有多个用于容纳样品靶的样品定位盘；

所述样品靶由嵌有样品的环氧树脂板制成。

7.根据权利要求6所述的均匀气流激光剥蚀池，其特征在于：

所述样品定位盘的深度与所述样品靶的厚度相同；

所述样品定位盘的直径与所述样品靶的直径相同；和/或

所述样品靶的直径为1.77cm或者2.54cm。

8.根据权利要求7所述的均匀气流激光剥蚀池，其特征在于：

所述样品室内设置3个样品定位盘，分别是两个直径为1.77cm的样品定位盘和一个直径为2.54cm的样品定位盘。

9.根据权利要求6所述的均匀气流激光剥蚀池，其特征在于：

所述样品室的壁部设有用于向样品定位盘垂直投射激光的激光投射窗。

10.一种均匀气流激光剥蚀池在元素同位素组成分析中的应用，其特征在于：

所述均匀气流激光剥蚀池为权利要求1至9任一项所述的均匀气流激光剥蚀池。