[发明专利]保护膜有效
申请号: | 201711419861.3 | 申请日: | 2017-12-25 |
公开(公告)号: | CN108165193B | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 李建德 | 申请(专利权)人: | 业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
主分类号: | C09J7/29 | 分类号: | C09J7/29 |
代理公司: | 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 | 代理人: | 杨冬梅;张行知 |
地址: | 611730 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供一种保护膜。该保护膜,用于贴附于被保护物体上,包括:第一保护膜,包括层叠设置的第一基底层及第一胶层,所述第一胶层相对于所述第一基底层更靠近所述被保护物体,所述第一基底层包括撕除部,及与所述撕除部连接的保留部,所述第一胶层包括撕离区及保留区,所述撕除部覆盖所述撕离区,所述保留部覆盖所述保留区;第二保护膜,包括层叠设置的第二基底层及第二胶层,所述第二胶层设置于所述第一基底层远离所述第一胶层的表面;当撕离所述第二保护膜时,所述撕除部及所述撕离区能随所述第二保护膜撕离所述被保护物,所述保留部及所述保留区保留于所述被保护物上。上述保护膜能够实现部分撕除。 | ||
搜索关键词: | 保护膜 | ||
第一保护膜,包括层叠设置的第一基底层及第一胶层,所述第一胶层相对于所述第一基底层更靠近所述被保护物体,所述第一基底层包括撕除部,及与所述撕除部连接的保留部,所述第一胶层包括撕离区及保留区,所述撕除部覆盖所述撕离区,所述保留部覆盖所述保留区;
第二保护膜,包括层叠设置的第二基底层及第二胶层,所述第二胶层设置于所述第一基底层远离所述第一胶层的表面;
当撕离所述第二保护膜时,所述撕除部及所述撕离区能随所述第二保护膜撕离所述被保护物,所述保留部及所述保留区保留于所述被保护物上。
5.根据权利要求4所述的保护膜,其特征在于,所述撕除部靠近所述第二胶层的表面设置有凹槽部,且所述第一基底层开设有多个通孔,多个所述通孔沿所述撕除部及所述保留部的分界线间隔设置。6.根据权利要求5所述的保护膜,其特征在于,所述撕除部靠近所述第二胶层的表面的水滴角大小为10°~53°,所述保留部靠近所述第二胶层的表面的水滴角大小为70°~80°。7.根据权利要求4所述的保护膜,其特征在于,所述第二胶层包括第一胶区以及第二胶区,所述第一胶区覆盖所述撕除部,所述第二胶区覆盖所述保留部,所述第一胶区的粘着性大于所述第二胶区的粘着性,且所述第一基底层开设有多个通孔,多个所述通孔沿所述撕除部及所述保留部的分界线间隔设置。8.根据权利要求4所述的保护膜,其特征在于,所述保留部环绕所述撕除部设置。9.根据权利要求4所述的保护膜,其特征在于,所述撕除部为圆形结构。10.根据权利要求4所述的保护膜,其特征在于,所述第二基底层还设置有凸出于所述第一基底层的凸耳。该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;英特盛科技股份有限公司,未经业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;英特盛科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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