[发明专利]一种线栅偏振器的制造方法及制造系统

摘要

本发明公开了一种线栅偏振器的制造方法，采用层叠刻蚀的方式逐层制造线栅，采用全息光刻方法逐层制作光刻胶掩模，并采用离子束刻蚀方法实现掩模转移，并利用光学莫尔条纹方法将从第二层开始的光栅与第一层的光栅进行对准，制造高深宽比结构的线栅。本发明还公开了一种线栅偏振器的制造系统，包括镀膜机、光刻涂胶机、PECVD装置、干法刻蚀机、离子束刻蚀机、全息光刻系统、以及与所述全息光刻系统结合设置的光学对准装置，用于实施上述线栅偏振器的制造方法。

主权项

一种线栅偏振器的制造方法，其特征在于，当制造两层的线栅偏振器时，包括步骤：(1)在基片上镀制金属膜层；(2)在金属膜层上涂布光刻胶；(3)采用全息光刻方法在光刻胶上制作光刻胶掩模；(4)采用离子束刻蚀方法实现掩模转移，在金属膜层上形成沟槽，并清洗剩余的光刻胶；(5)选取基片一侧边缘作为参考光栅区，其余部分作为制作区，在制作区沟槽内填入硅材料；(6)采用离子束刻蚀方法对制作区表面进行抛光；(7)在制作区表面镀制金属膜层；(8)重复步骤(2)、(3)、(4)，且在重复步骤(3)时，采用光学莫尔条纹法进行光栅对准后进行步骤(3)；(9)采用干法刻蚀去除硅材料。